超細(xì)粉體研磨分散機(jī)，超細(xì)粉體分散設(shè)備，納米粉體分散機(jī)，超細(xì)粉體分散機(jī)，超細(xì)粉體高速剪切分散機(jī)，納米研磨分散機(jī)，納米分散機(jī) 

超細(xì)粉體的分散是基礎(chǔ)研究領(lǐng)域和工業(yè)技術(shù)部門普遍遇到的課題，其應(yīng)用日益廣泛，如化工、醫(yī)藥、涂料、材料、食品等。分散技術(shù)不僅是提高產(chǎn)品質(zhì)量和性能及提高工藝效率*，而且是十分重要的技術(shù)手段。

但是由于超細(xì)粉體粒度小，極易產(chǎn)生自發(fā)凝并，表現(xiàn)出強(qiáng)烈的聚團(tuán)特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團(tuán)的結(jié)果導(dǎo)致超細(xì)粉體材料性能的嚴(yán)重劣化。另一方面，在復(fù)合材料的制備過(guò)程中，由于超細(xì)粉體的這種強(qiáng)烈團(tuán)聚特性和它與復(fù)合基體材料的極性差異，超細(xì)粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質(zhì)復(fù)合材料，是復(fù)合材料的性能難以達(dá)到人們預(yù)期的效果。              

所以為了解決這一問(wèn)題，各種類型的分散設(shè)備應(yīng)運(yùn)而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術(shù)中有三個(gè)目的。其一是使團(tuán)聚粉體的碎解和分散，盡力使團(tuán)聚粉體達(dá)到單粉體分散；其二是在粉體制備過(guò)程中由于各部分或前后生產(chǎn)的產(chǎn)品的成分或粒度不均勻，而在使用時(shí)需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對(duì)粉體材料進(jìn)行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進(jìn)行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進(jìn)行分散、混合與均化處理。

  

目前對(duì)于超細(xì)粉體的分散，一般采用以下幾種設(shè)備：

一、超聲分散機(jī)，超聲方式分散，對(duì)于小批量的物料還行，但無(wú)法放大生產(chǎn)。
二、機(jī)械攪拌分散機(jī)，這種在工業(yè)化分散中比較常見(jiàn)，但是由于自身的結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)速低，分散有死角，導(dǎo)致zui終分散效果差，并且分散的效率很低。
三、混合分散機(jī)，這種分散機(jī)適合高粘度的物料的分散，電機(jī)功率大，但是也存在和機(jī)械攪拌分散機(jī)一樣的問(wèn)題，分散效率低，效果差。

隨著超細(xì)粉體分散的進(jìn)一步發(fā)展，上海SGN研發(fā)出的分散設(shè)備-研磨分散機(jī)。結(jié)構(gòu)為膠體磨頭+分散頭定轉(zhuǎn)子，先研磨打開團(tuán)聚體，在瞬時(shí)通過(guò)分散工作組進(jìn)行分散，分散效率快，分散效果好。

SGN研磨分散機(jī)在超細(xì)粉體的分散中有著突出的應(yīng)用和優(yōu)勢(shì)，如納米氫氧化鎂、納米氫氧化鋁、石墨烯、碳納米管、二氧化硅、納米樹脂、納米涂料、醫(yī)藥超細(xì)混懸液等都有著成功的經(jīng)驗(yàn)和案例。

SGN研磨分散機(jī)的研發(fā)初衷就是為了解決納米物料分散，解決粉體分散到液體中，二次團(tuán)聚的問(wèn)題。GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN（上海）公司經(jīng)過(guò)研究剛剛研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級(jí)高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級(jí)變更為一級(jí)，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過(guò)膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過(guò)乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） 

GMD2000系列超細(xì)粉體研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。

GMD2000系列的特點(diǎn)：

① 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

② 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

③ 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

④ 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

⑤ 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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• GMSD2000石墨烯潤(rùn)滑油納米研磨分散機(jī)
• GMSD2000碳納米管碳原子研磨分散機(jī)
• GMD2000蠕蟲狀膨脹石墨研磨分散機(jī)
• 納米金剛石微粉研磨分散機(jī)
• GMD2000硅碳復(fù)合負(fù)極材料高速研磨分散機(jī)
• GMD2000油性石墨漿料納米研磨分散機(jī)
• 磷酸鐵鋰研磨分散機(jī)
• 研磨分散機(jī)
• 硫酸鋇研磨分散機(jī)
• GMD2000/4納米粉體研磨分散機(jī)